中国のチップ メーカーは、半導体製造用のリソグラフィ システムを調達することがますます困難になっていると感じています。 数か月にわたる協議の後、オランダは米国の輸出規制に参加します。これは、特に世界市場のリーダーである ASML に影響を与えます。同社は、古い露光技術であっても、リソグラフィのシステムを中国に販売することを許可されるために、将来的に例外的なライセンスが必要になります。

新しい輸出制限は、 Liesje Schreinemacher は、オランダ議会への公式書簡で発表しました。; 彼女はオランダの対外貿易開発協力大臣です。 彼の省は、夏が始まる前に変更を導入したいと考えています。

EUV に続いて DUV 禁止

以前は、ASML は極紫外線 (EUV) 露光を使用する SMIC などの中国のチップ メーカーにリソグラフィ システムを供給することを許可されていませんでした。 新しい輸出制限には、将来的に、13.5 ナノメートルではなく 193 ナノメートルの波長の深紫外 (DUV) 光で動作する機械が含まれます。

層の一部のみがまだ EUV にさらされている現在の 3nm 世代を含む、古い製造プロセスと新しい製造プロセスには、対応するリソグラフィ システムが必要です。 SMIC の 7nm 構造の最先端の製造プロセスは、DUV マシンのみを使用します。 同社は、新しいリソグラフィ システムなしに生産能力を高めることはできません。

ドイツの企業であるトルンプやツァイスなどは、ASML に生産用のレーザーと光学部品を供給しています。 ただし、短期から中期の経済効果は限定的である必要があります。結局のところ、ASML は何年にもわたって売り切れているため、TSMC、Samsung、SK Hynix、Intel などの注文数ほどの数のマシンを提供することはできません。

（国際）国益

商務省を代表して、Schreinemacher 氏は、輸出制限で達成したい 3 つの目標を挙げています。

1. オランダの商品が望ましくない最終用途に寄与するのを防ぎます。 B. 軍事利用または大量破壊兵器への使用。
2. 望ましくない長期的な戦略的依存を回避します。 と
3. オランダの技術的リーダーシップを維持します。

現在、ASML と中国については明確に言及されていませんが、リソグラフィ システムのオランダのメーカーは他にないため、その意図は明らかです。 書簡には、「追加の国家輸出規制措置は、半導体生産サイクルにおける非常に特殊な技術に関連しており、オランダは、紫外線浸漬リソグラフィーの最先端のディープ (DUV) 技術など、独自の主導的地位を占めています。」

米国は、2022 年以降、オランダと日本からの半導体の輸出を制限するよう求めてきました。 ロイター通信社が内部情報源を使用して報道日本もすぐに追随する。

その間、オランダは独自の規制に対して 2 つのアプローチを取っています。 一方では、彼らはワッセナー協定の枠組みの中で多国間協定を提案しているが、メンバーとしてロシアとのコンセンサスを期待していない. 一方、国家管理リストは、EU 法に従って、公的な省令によって確立されます。

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